8月26日晚间，拓荆科技发布2022年半年度报告称，公司实现营业收入5.23亿元，同比增加364.87%；归属于上市公司股东的净利润1.08亿元，较上年同期扭亏为盈；归属于上市公司股东的扣除非经常性损益的净利润4915.03万元，较上年同期亦扭亏为盈。
拓荆科技指出，营业收入较上年同期增长364.87%，主要原因受益于国内半导体行业良好的发展态势，国内晶圆厂扩产带动半导体设备需求增长，公司作为国内半导体薄膜沉积设备主要厂商，持续保持高强度的研发投入，产品竞争力和客户认可度不断提升，销售订单持续增长。报告期内，公司核心产品PECVD设备实现收入4.67亿元，较上年同期增长345.21%；SACVD设备较上年同期实现收入0.41亿元，ALD设备较上年同期实现收入0.08亿元。
资料显示，拓荆科技主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售与技术服务。公司主要产品包括等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积（ALD）设备和次常压化学气相沉积（SACVD）设备三个产品系列，已广泛应用于国内晶圆厂14nm及以上制程集成电路制造产线，打破国际厂商在高端半导体薄膜沉积设备领域对国内市场的垄断，与国际寡头直接竞争。公司目前是国内唯一一家产业化应用的集成电路PECVD设备和SACVD设备厂商，也是国内领先的集成电路ALD设备厂商。
报告期内，拓荆科技持续拓展PECVD、ALD、SACVD三大系列产品工艺应用领域，不断丰富、完善量产产品的功能，保持产品核心竞争力，进一步提升现有产品市场占有率，并获得逻辑芯片、存储芯片等领域现有客户重复订单和新客户订单。公司产品在晶圆制造产线的量产应用规模持续扩大，截至报告期末，公司设备在客户端产线生产产品的累计流片量已由截至2021年12月份的4600余万片增加至7100余万片。报告期内，公司设备在客户端产线生产运行稳定性表现优异，平均机台稳定运行时间（Uptime）超过90%（业内标准通常为大于85%）。
拓荆科技表示，公司在现有产品基础上，围绕CVD设备细分领域，积极布局新产品研发，持续丰富产品种类，目前已开发了TS-300（多边形高产能平台）、基于高产能平台的热处理原子层沉积（Thermal ALD）、高密度等子增强化学气相沉积（HDPCVD）设备和紫外线固化处理（UV Cure）设备等新产品。
